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离子束辅助沉积(Ion Assisted Deposition，IAD)是在镀膜过程中将常规的尊龙凯时束蒸发技术与离子体电弧技术相结合，它是目前镀制优质尊龙凯时薄膜的主要方法之一。离子辅助镀膜技术是改善薄膜特性的重要手段，由源提供的高能离子与薄膜沉积分子碰撞后，将动能传递给薄膜分子，使得沉积分子具有很高的迁移率。从而改变薄膜的各种特性。如薄膜的致密度、附着力、应力、牢固度、折射率和吸收等。
离子源对薄膜特性的改变效果，不仅与基板种类、机器结构以及薄膜的制备工艺有关，而且与离子源的种类有关。
依据工作原理不同，当前常用离子源主要分为霍尔离子源、考夫曼离子源、射频离子源以及APS离子源。
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